退火爐的工作原理

2020-03-24

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退火爐是用于制造半導體器件的過程，該過程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在實現不同的效果。可以加熱晶圓以激活摻雜劑，將薄膜轉化為薄膜，或者將薄膜轉化為晶圓基材界面，制成致密沉積的薄膜，改變生長薄膜的狀態，修復注入的損傷，移動摻雜劑或涂料藥劑從一個膜轉移到另一膜或從膜轉移到晶片襯底。

退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中，例如氧化，也可以單獨處理。退火爐由專門設計用于加熱半導體晶片的設備完成。退火爐是一種具有超節能結構和纖維結構的節能循環式操作爐，可節電60％。

退火爐是一種金屬熱處理工藝，可將工件加熱到預定溫度并在一定時間后緩慢冷卻。

詳情如下所示：

1.改善或消除鋼在鑄造，鍛造，軋制和焊接過程中引起的各種結構缺陷和殘余應力，并防止工件變形和開裂。

2.軟化要切割的工件。

3.細化晶粒并改善結構，以改善工件的機械性能。

4.準備組織進行最終熱處理（淬火，回火）。

退火爐的工作原理：

通過風扇的循環，退火爐的爐腔內的溫度分布均勻地分布。退火爐的兩個爐腔可以獨立運行，提高了退火效率。每個爐腔中有兩個風扇，但沒有空氣過濾器，與實際情況有所不同。通過風扇循環使爐內溫度分布均勻，并通過熱處理重組薄膜材料的微觀結構，以提高穩定性和轉化效率。將鑄件加熱到大約950°C，并在一定時間后冷卻以消除鋼鑄件和焊件的內部應力。對于鋼材，奧氏體開始形成的溫度比該溫度低100至200°C，冷卻后，可通過在空氣中冷卻來消除內部應力。

退火爐