退火是一種金屬熱處理工藝，指的是將金屬緩慢加熱到一定溫度，保持足夠時間，然后以適宜速度冷卻。目的是降低硬度，改善切削加工性；沈陽半導體生長爐消除殘余應力，穩定尺寸，減少變形與裂紋傾向；細化晶粒，調整組織，消除組織缺陷。沈陽半導體生長爐準確的說，退火是一種對材料的熱處理工藝，包括金屬材料、非金屬材料。而且新材料的退火目的也與傳統金屬退火存在異同。在熱處理工藝中退火的常用設備是退火爐。

連續光亮退火爐用途：用于不同規格銅直管棒、鋼管、鋁管或盤園在控制氣氛下連續光亮退火特點：工件連續通過預熱、加熱、保溫、緩冷、冷卻，不受長度限制。沈陽半導體生長爐傳動采用托輥式同步傳動，變頻調速，平穩可靠。沈陽半導體生長爐通保護氣氛和強力的熱氣氛循環，溫度均勻，內外表面十分光亮。冷卻區設計獨特，保證工件均勻冷卻。處理的產品內外表面光亮，產品質量高，生產率高。加熱方式：電加熱或燃氣加熱

均勻化退火又稱擴散退火。沈陽半導體生長爐應用于鋼及非鐵合金如錫青銅、硅青銅、白銅、鎂合金等的鑄錠或鑄件的一種退火方法。將鑄錠或鑄件加熱到各該合金的固相線溫度以下的某一較高溫度，長時間保溫，然后緩慢冷卻下來。沈陽半導體生長爐均勻化退火是使合金中的元素發生固態擴散，來減輕化學成分不均勻性偏析，主要是減輕晶粒尺度內的化學成分不均勻性晶內偏析或稱枝晶偏析。均勻化退火溫度所以如此之高，是為了加快合金元素擴散，盡可能縮短保溫時間

該爐是供金屬機件、環件等在額定的溫度下進行熱處理設備簡介：本爐是由爐體與一個可移動的爐蓋及控制系統組成。爐體外殼采用型鋼及鋼板焊接而成。沈陽半導體生長爐爐蓋支撐采用型鋼和導軌組合移動式。元件采用北京首鋼產的高電阻合金0Cr25Al5布置在爐側。爐底由于承重采用高鋁磚砌筑，爐子中心采用大圈套小圈做法，里外加熱。沈陽半導體生長爐爐蓋采用液壓升降，電機控制自動行走。溫控系統采用PID可控硅控制，精度高。